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      行業資訊

      硬鉻電鍍工藝操作條件

      文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2016/6/28     瀏覽次數:    


        操作條件

      鍍液組成及工藝條件
      標準開缸
      適用范圍
      鉻酐
      240克/升
      225-275克/升
      純硫酸
      2.7克/升
      2.5-4.0克/升
      RC-25K開缸劑
      20毫升/升
      10-30毫升/升
      陰極電流密度
      60安培/平方分米
      30-75安培/平方分米
      陽極電流密度
      30安培/平方分米
      15-35安培/平方分米
      工作溫度
      58℃
      50-60℃

        設備要求

        鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;

        整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;

        陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

        加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

        冷卻管:選用鈦或鉛材料;

        過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。


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